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晶體材料 >> 紅外晶體 >> 氟化锂(LiF)
氟化锂(LiF)
 

06
 
簡要介紹
本事業部采用提拉法生長高質量的氟化锂,氟化锂晶體的透過率範圍在從真空紫外105nm到紅外的6.0μm,是真空紫外去透過率最好的材料。這種晶體被廣泛的用來制造紫外-可見-紅外領域的光學窗口、透鏡、棱鏡和折射元件。此外,該晶體也可以被用作X涉嫌探測器晶體。較低的折射率使得該晶體在沒有防反射鍍膜的情況下直接使用。作爲窗口材料,氟化锂晶體是一種優良的消色差和複色差材料,被廣泛應用于光學儀器中的紫外、紅外透射窗口透鏡和棱鏡。
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詳細參數

主要性能參數

透射範圍

0.105 --- 6µm  

折射率

1.37327 @2.5 µm; 1.624 @0.121 µm  

反射損失

4.4% @4.0 µm  

密度

2.63905 g/cm3  

熔點

870°C; 848°C  

熱導率

11.3 W/(m·K) @41°C 

比熱

1562 J/(kg·K)  

熱膨脹

37 · 10-6 /°C @0°---100°C  

硬度 (Mohs)  

102-113 (Indenter load: 600g)  

楊氏模量

64.79 GPa  

剪切模量

55.14 GPa  

體模量

62.03 GPa  

斷裂模量

10.8 MPa  

彈性系數

C11 = 112; C12 = 45.6; C44 = 63.2 GPa  

介電常數

9.0 @25°C, f = 100...109 Hz  

水溶性

0.27g / 100g @18°C  

材料類型

Single crystal, synthetic  

晶體結構

Cubic, NaCl type structure, a0= 4.026 Å  

解理面

(100)  

尺寸

145 mm, 200 mm  

應用

X-ray monochromator plates; Optical material for VUV applications  

備注

Tends to create colour centers; max. temperature for application: 400°C

 
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