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薄膜襯底 >> GaN 薄膜基片 >> 氧化鎂(MgO)
氧化鎂(MgO)
 

03
 
簡要介紹
       氧化鎂(MgO)单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中。如用于制作磁學薄膜、半導體薄膜、光學薄膜和高溫超導薄膜等。由于MgO单晶在微波波段的介電常數和损耗都很小,且能得到大面积的基片(直径2英吋及更大),所以是當前産業化的重要高溫超導薄膜單晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。具有很大的现实及潜在应用市场。
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詳細參數

 

主要性能參數

生長方法

弧熔法

晶體結構

立方

晶格常數

a=4.130 Å 

熔點(

2800

純度

99.95%

密度(g/cm3

3.58

硬度

5.5mohs

熱膨脹系數(/

11.2x10-6

晶體解理面

<100>

光學透過

>90%200~400nm),>98%500~1000nm

介電常數

ε= 9.65

熱導率(卡/度 厘米 秒)

0.14  300°K

尺寸

10x310x510x1015x15,,20x1520x20

dia2” x 0.33mm dia2” x 0.43mm 15 x 15 mm

厚度

0.5mm1.0mm

抛光

單面或雙面

晶向

<001>±0.5º

晶面定向精度:

±0.5°

邊緣定向精度:

(特殊要求可達以內)

斜切晶片

可按特定需求,加工邊緣取向的晶面按特定角度傾斜(傾斜角45°)的晶片

Ra:

≤5Å5µm×5µm

主要特點

 由于MgO单晶在微波波段的介電常數和损耗都很小,且能得到大面积的基片(直径2英吋及更大),所以是當前産業化的重要高溫超導薄膜單晶基片之一。

主要用途

用于制作磁學薄膜、半導體薄膜、光學薄膜和高溫超導薄膜等,也可用于制作移動通訊設備所需的高溫超導微波濾波器等器件。

包裝

100級潔淨袋,1000級超淨室

 
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