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薄膜襯底 >> 磁性與鐵電薄膜基片 >> 氧化鎂(MgO)
氧化鎂(MgO)
 

01
 
簡要介紹
        氧化鎂(MgO)单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中。如用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等。由于MgO单晶在微波波段的介電常數和损耗都很小,且能得到大面积的基片(直径2英吋及更大),所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。具有很大的现实及潜在应用市场。
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詳細參數

主要性能參數
生長方法
弧熔法
晶體結構
立方
晶格常數
a=4.130 Å 
熔點(℃)
2800
純度
99.95%
密度(g/cm3
3.58
硬度
5.5(mohs)
熱膨脹系數(/℃)
11.2x10-6
晶體解理面
<100>
光學透過
>90%(200~400nm),>98%(500~1000nm)
介電常數
ε= 9.65
熱導率(卡/度 厘米 秒)
0.14  300°K
尺寸
10x3,10x5,10x10,15x15,,20x15,20x20,
dia2” x 0.33mm dia2” x 0.43mm 15 x 15 mm
厚度
0.5mm,1.0mm
抛光
單面或雙面
晶向
<001>±0.5º
晶面定向精度:
±0.5°
邊緣定向精度:
2°(特殊要求可達1°以內)
斜切晶片
可按特定需求,加工邊緣取向的晶面按特定角度傾斜(傾斜角1°-45°)的晶片
Ra:
≤5Å(5µm×5µm)
主要特點
 由于MgO单晶在微波波段的介電常數和损耗都很小,且能得到大面积的基片(直径2英吋及更大),所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。
主要用途
用于制作磁學薄膜、半導體薄膜、光學薄膜和高溫超導薄膜等,也可用于制作移動通訊設備所需的高溫超導微波濾波器等器件。
包裝
100級潔淨袋,1000級超淨室

 
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